Dabei bildet sich ein hochenergetisches, meist vollständig ionisiertes Plasma ohne Mitwirkung einer Gasatmosphäre. Eine Inert– oder Reaktivgasatmosphäre mit geringem Druck ist aber vorhanden. Haupteinsatzgebiet der Vakuumbogenabscheidung ist die Abscheidung von Nitriden und Carbiden. z. B.: TiN; Ti(C;N); (Ti;Al)N; CrNx, daneben ta-C (tetraedrisch gebundener amorpher Kohlenstoff).