Verfahren zur Herstellung von mikrorissigen Chromschichten mit einem Rissnetzwerk von 500 R/cm durch Abscheiden einer (Zwischen-) Nickelschicht aus einem Chloridelektrolyten ohne Borsäure bei einer Stromdichte von 7 bis 8 A/dm2. Auf dieser Nickelunterlage werden Chromüberzüge aus jedem beliebigen Chromelektrolyten mikrorissig abgeschieden, auch bei sehr dünnen Chromschichten.