Von G. L. Martin Co. Baltimore, USA, entwickeltes Verfahren zum Hartanodisieren (Harteloxieren) von Aluminium mit weniger als 3 % Kupfer und 7,5 % Silicium, bei dem mit Kohlendioxid gesättigte 15%ige Schwefelsäure bei einer niedrigen Temperatur (4,5 °C, vorzugsweise unter –1 °C) benutzt wird. Die Stromdichte beträgt 2 bis 2,5 A/dm2; sie wird mit einer Anfangsspannung von 10 bis 30 V erreicht, die zum Schluss bis 40 bis 60 (75) V gesteigert wird. In 60 min entsteht eine 25 bis 35 µm dicke Oxidschicht, die in 240 min auf etwa 150 µm gesteigert werden kann.