CVD-Schichten

(Chemical Vapour Deposition) Durch Energiezufuhr werden Metallverbindungen verdampft. Die dabei entstehenden Metallionen werden reduziert und können als Metall auf dem Werkstück abgeschieden werden: z. B. Al, Ti, V, Cr, Ni, Nb, Mo, Ta, W. Bei der Reaktion mit geeigneten Reaktionspartnern scheiden sich auch chemische Verbindungen auf dem Werkstück ab: z. B. Carbide, Nitride, Oxide oder Silicide. Die CVD-Beschichtung erfolgt in einer Reaktionskammer, in der die Reaktionspartner in gasförmigem Zustand vorliegen. Durch die chemische Reaktion der Reaktionspartner entstehen die genannten Reaktionsprodukte und scheiden sich auf der Oberfläche des Werkstückes nahezu gleichmäßig ab. Die Bearbeitungstemperaturen liegen zwischen 300 °C und 1100 °C.